浙江大學(xué)理學(xué)部導(dǎo)師:劉潤

發(fā)布時間:2021-10-07 編輯:考研派小莉 推薦訪問:
浙江大學(xué)理學(xué)部導(dǎo)師:劉潤

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浙江大學(xué)理學(xué)部導(dǎo)師:劉潤 正文


  姓名:劉潤
  性別:男
  所在學(xué)院:理學(xué)部
  單位:化學(xué)系
  職稱:副教授

  個人簡介
  教育背景:
  華東理工大學(xué)化學(xué)系獲學(xué)士學(xué)位(1988-1992),
  華東理工大學(xué)物理化學(xué)專業(yè)獲碩士學(xué)位(1992-1995),
  密蘇里-羅拉大學(xué)(University of Missouri-Rolla)化學(xué)系獲博士學(xué)位并作博士后研究工作(1998-2004)

  工作經(jīng)歷:
  華東理工大學(xué)助教,講師(1995-1998)
  2004.11-現(xiàn)在 浙江大學(xué)化學(xué)系物理化學(xué)研究所, 副教授,碩導(dǎo)。

  研究簡介:
  目前主要從事材料電化學(xué),半導(dǎo)體光電化學(xué)和功能材料薄膜與器件的研究。
  已在J. Phys.Chem.B,Chem. Mater., Appl. Phys. Lett., Crystal Growth & Design 等期刊上 發(fā)表論文30余篇,論文他引達(dá)550余次,最高單篇引用次數(shù)達(dá)167次。
  研究工作得到國家973重大科學(xué)研究計(jì)劃,國家自然科學(xué)基金,浙江省自然科學(xué)基金,教育部博士點(diǎn)新教師基金及留學(xué)回國人員基金等資助,在此深表感謝。
 
  Selected Papers (* Corresponding Author):
  1. K. L Chen, R. Liu*, H. Wang, Y. F. Zheng, Z. D. Xu, “Room Temperature Electrodeposition of Oriented AgI Crystals”, J. Electrochem. Soc., 2011,158 (4), D200-D204.
  2. H. L. Kang, R. Liu*, K. L. Chen, Y. F. Zheng, Z. D. Xu, " Electrodeposition and Optical Properties of Highly Oriented CuI Thin Films",Electrochim.Acta, 2010, 55(27), 8121-8125.
  3. H. Li, R. Liu*, Honglang, Kang, Y. F. Zheng and Z. D. Xu “Growth and characterization of Highly Oriented Cubr thin Films Through Room Temperature electrochemical route”, Electrochim. Acta, 2008, 54: 242-246
  4. H. Li, R.Liu*, Y. F. Zheng, W.X. Chen and Z. D. Xu “Morphology Control of Electrodeposited Cu2O Crystals in Aqueous Solution using Room Temperature Hydrophilic Ionic Liquids” Crystal Growth &Design, 2006, 6(12): 2795-2798. (Cited 49 times)
  5. X. F. Han, R. Liu*, Z. D. Xu, W. X. Chen and Y. F. Zheng, “Room Temperature Deposition of Nanocrystalline Cadmium Peroxide Thin Films by Electrochemical Route”, Electrochem. Commun. 2005, 7 (12), 1195-1198. (Cited 12 times)
  6. R.Liu, E.A.Bulp, F.Oba, E.W.Bohannan, F.Ernst, J. A. Switzer,“Epitaxial Electrodeposition of High-Aspect-Ratio Cu2O (110) Nanostructures on InP(111)” Chem.Mater. 2005, 17: 725-729 . (Cited 41 times)
  7. R.Liu,F.Oba, E.W.Bohannan, F.Ernst, J.A.Switzer “Shape Control in Epitaxial Electrodeposition: Cu2O Nanocubes on InP(001)”, Chem. Mater. 2003, 15: 4882-4885 (Cited 76 times)
  8. R.Liu,F.Oba, E.W.Bohannan, F.Ernst, J.A.Switzer “Epitaxial Electrodeposition of Cu2O Films onto InP(100)”, Appl. Phys. Lett., 2003, 83: 1944-1946. (Cited 31 times)
  9. J.A.Switzer, R.Liu, E. W. Bohannan, and F. Ernst “Epitaxial Electrodeposition a Crystalline Metal Oxide onto Single-Crystal Silicon”, J. Phys. Chem. B, 2002, 106: 12369-12372. (Cited 26 times)
  10. R. Liu, A. A. Vertegel, E. W. Bohannan, T. A. Sorenson, and J. A. Switzer, “Epitaxial Electrodeposition of Zinc Oxide Nanopillars onSingle-Crystal Gold”, Chem Mater. 2001, 13: 508-512. (Cited 167 times)

  工作研究領(lǐng)域:
  目前主要從事材料電化學(xué),光電化學(xué)和功能薄膜與器件的研究。 電沉積,外延生長,界面和表面光電化學(xué),電化學(xué)法制備結(jié)構(gòu)可控的半導(dǎo)體薄膜,組裝有序納米結(jié)構(gòu)并將其應(yīng)用于光電器件,太陽能電池及光電催化等方面。

  授權(quán)專利:
  
1. 劉潤, 徐鑄德, 王輝, 陳科立,采用電沉積制備氟化鈣或稀土摻雜氟化鈣薄膜的方法,授權(quán)專利號:ZL 201010188743.8
  2. 劉潤, 王輝, 陳科立, 徐鑄德,采用電沉積制備氟化鍶或稀土摻雜氟化鍶薄膜的方法,授權(quán)專利號:ZL 201010220120.4
  3. 劉潤, 徐鑄德, 陳科立,王輝,一種均勻致密碘化亞銅半導(dǎo)體薄膜的電化學(xué)制備方法,授權(quán)專利號:ZL 201010188752.7
  4. 劉潤, 徐鑄德, 陳科立,康紅藍(lán),一種室溫下合成高溫相碘化亞銅的電化學(xué)制備方法,授權(quán)專利號:ZL 201010188755.0
  5. 劉潤, 徐鑄德, 陳科立,王輝,一種電沉積碘化銀半導(dǎo)體薄膜的電化學(xué)制備方法,授權(quán)專利號:ZL 201010188759.9
  6. 薛斌, 徐鑄德, 劉潤,一種中空二氧化鈦納米球的制備方法,授權(quán)專利號:ZL 200910098714.X7. 薛斌, 徐鑄德

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